താഴെ കൊടുത്തിട്ടുള്ളതില് ഉഭയദിശാപ്രവര്ത്തനമല്ലാത്തത് :
N2+3H2 → 2NH3
NH3+HCl → NH4Cl
CaCO3 → CaO+ CO2
2Na +2H2O → 2NaOH+H2
സമ്പര്ക്ക പ്രക്രിയയിലൂടെ നിര്മ്മിക്കപ്പെടുന്ന രാസവസ്തു
സള്ഫര് ട്രൈ ഓക്സൈഡ്
ഒലിയം
സള്ഫര് ഡൈ ഓക്സൈഡ്
സള്ഫ്യൂറിക് ആസിഡ്
രാസവളനിര്മ്മാണത്തിലെ പ്രധാന അസംസ്കൃതവസ്തു
കാര്ബണ്
നൈട്രജന്
അമോണിയ
കാല്സ്യം
ഹേബര് പ്രക്രിയയില് ഉപയോഗിക്കുന്ന മര്ദ്ദം
100-150 atm
200-250 atm
150-300 atm
300-350 atm
താഴെ പറയുന്നവയില് ശോഷകാരകം അല്ലാത്തത്.
കാല്സ്യം ഓക്സൈഡ്
നൈട്രിക് ആസിഡ്
സിലിക്കാ ജെല്
ഈഥീന്റെ നിര്മ്മാണത്തിനുപയോഗിക്കുന്ന പദാര്ത്ഥങ്ങള്
ഹൈഡ്രോക്ലോറിക് ആസിഡ്, മീഥീന്
ഹൈഡ്രോക്ലോറിക് ആസിഡ്, എഥനോള്
സള്ഫ്യൂറിക് ആസിഡ്, മെഥനോള്
സള്ഫ്യൂറിക് ആസിഡ്, എഥനോള്
ഇലക്ട്രോപ്ലേറ്റിംഗിന് മുമ്പായി ലോഹോപരിതലം വൃത്തിയാക്കാന് ഉപയോഗിക്കുന്ന രാസവസ്തു
ഹൈഡ്രോക്ലോറിക് ആസിഡ്
സില്വര് നൈട്രേറ്റ്